Equip de polvorització d'atomització per ultrasons per a recobriment de nanofilm
Sep 18, 2026
Equip de polvorització d'atomització per ultrasons per a recobriment de nanofilm
1. Què és la polvorització de nanofilms?
Els nanofilms són materials de-capa fina amb gruixos en el rang nanoescala, que s'utilitzen habitualment per millorar la conductivitat, les propietats òptiques, la humectabilitat de la superfície i altres funcions dels substrats. Els mètodes tradicionals de preparació de pel·lícules primes-inclouen el recobriment per centrifugació, el recobriment per immersió, la pulverització i la deposició de capa atòmica. La polvorització d'atomització per ultrasons, mitjançant l'atomització i la deposició de líquids, ofereix una opció per a la preparació de pel·lícules primes-basades en solució-
2. Principi de funcionament de l'equip de recobriment de polvorització d'atomització ultrasònica
L'equip de recobriment d'atomització d'ultrasons consisteix principalment en un generador d'ultrasons, broquet d'atomització, sistema de subministrament de líquid, sistema de gas portador i plataforma de moviment. El seu procés bàsic de treball és el següent:
1. La solució de nanomaterial o la solució de recobriment s'entrega al filtre d'atomització d'ultrasons.
2. La vibració ultrasònica fa que el líquid formi fines gotes.
3. El gas portador transporta les gotes a la superfície del substrat.
4. Les gotes s'estenen, s'assequen o se sotmeten a un post-tractament al substrat.
5. Es forma una pel·lícula fina del gruix de l'objectiu mitjançant múltiples aerosols.
3. Avantatges de la polvorització d'atomització ultrasònica per a nanofilms
Atomització uniforme:Els broquets d'atomització per ultrasons generen gotes fines mitjançant vibracions d'alta-freqüència, que ajuden a millorar la uniformitat de la deposició del recobriment. La mida de les gotes, la distància de polvorització, la velocitat de subministrament de líquid i l'estat del substrat afecten la qualitat final de la pel·lícula.
Control precís del gruix de la pel·lícula:El gruix de la pel·lícula es pot controlar amb precisió ajustant el nombre d'aerosols, la velocitat de subministrament de líquid, la velocitat de moviment del filtre i la concentració de la solució.
Millora de l'ús del material:La polvorització d'ultrasons normalment empra una atomització a baixa -velocitat i un mètode de polvorització més suau, reduint algunes esquitxades i polvorització excessiva, ajudant així a reduir els residus de material. La utilització real del material encara depèn del sistema de polvorització, la mida del substrat, les propietats de la solució i el mètode de recuperació.
Apte per a la preparació de pel·lícules -àmplies:La polvorització d'atomització per ultrasons es pot combinar amb plataformes de moviment automatitzat per aconseguir un recobriment d'-àrea gran sobre substrats plans.
4. Aplicacions de la polvorització d'atomització ultrasònica per a nanofilms
Pel·lícules conductores transparents:La polvorització ultrasònica es pot utilitzar per estudiar pel·lícules de polímer conductor com PEDOT:PSS, i és adequada per al desenvolupament de capes conductores transparents i materials electrònics orgànics.
Semiconductors i materials electrònics:Es pot utilitzar per a la investigació de recobriments funcionals sobre superfícies d'hòsties de silici, recobriment fotoresistent i pel·lícules primes electròniques orgàniques.
Pel·lícules òptiques funcionals:Materials com la nano-sílice es poden utilitzar per preparar pel·lícules de color estructurals i altres recobriments òptics funcionals.
Recobriments hidròfils i hidrofòbics:La polvorització ultrasònica es pot utilitzar per preparar pel·lícules hidròfiles, hidròfobes i altres pel·lícules funcionals superficials; Les propietats específiques depenen del material de recobriment i del procés de tractament superficial.
Nous materials energètics:Es pot utilitzar per a la investigació i el processament de capes funcionals en cèl·lules solars de-pel·lícula fina i altres recobriments de materials energètics nous.
5. RPS-Equip de recobriment per atomització ultrasònica SONIC
L'equip de recobriment d'atomització ultrasònic RPS-SONIC és adequat per a aplicacions com ara recobriments de nanomaterials, pel·lícules primes funcionals, materials electrònics i recobriments superficials de precisió. L'equip es pot personalitzar segons les característiques del material del client, la mida del substrat, l'àrea de recobriment i els requisits de producció.
Atomització ultrasònica{0}}d'alta precisió: utilitza la tecnologia d'atomització d'ultrasons d'alta-freqüència per ajudar a aconseguir una polvorització de gotes estable i uniforme.
Recobriment uniforme de pel·lícula fina:Adequat per a la preparació uniforme de pel·lícules primas mitjançant el control de paràmetres de procés com ara el subministrament de líquid, la velocitat de polvorització i els temps de polvorització.
Solucions de recobriment personalitzades:Les solucions de recobriment d'ultrasons adequades es poden dissenyar segons les característiques del material del client, la mida del substrat, l'àrea de recobriment i els requisits de producció.